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日立MC1000离子溅射仪是由日立高新技术公司自行设计制造，针对扫描电镜的精细高端需求而设计，适合微观结构较复杂的样品，尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。
主要特点：
1. 操作方便且有记忆功能，LCD触摸屏控制技术，可存储五种处理方案；
2. 通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹，从而使镀层更均匀；
3. 通过选配测量单元可实现1nm至30nm的镀层厚度控制。
应用领域：
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
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